高壓水霧化制備粉末材料生產(chǎn)線氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線真空熔煉氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線旋轉(zhuǎn)盤離心霧化制備粉末材料生產(chǎn)線等離子體霧化制備粉末材料生產(chǎn)線急冷法非晶粉末材料生產(chǎn)線(中日合作)等離子體球化制備粉末材料生產(chǎn)線氮?dú)獗Wo(hù)氣動(dòng)分級(jí)超細(xì)粉末材料系統(tǒng)電極感應(yīng)熔煉氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線燃?xì)饣鹧媲蚧苽浞勰┎牧仙a(chǎn)線真空熔煉霧化造粒裝備噴霧沉積成形裝備粉末材料生產(chǎn)裝備推桿式脫氧還原設(shè)備鋼帶式脫氧還原設(shè)備網(wǎng)帶式脫氧還原設(shè)備管式回轉(zhuǎn)煅燒設(shè)備井式水蒸汽熱處理設(shè)備臥式真空脫脂設(shè)備氫化脫氫生產(chǎn)鈦粉末裝備粉末材料熱處理裝備真空脫脂燒結(jié)一體裝備高比重(PM/MIM)臥式真空燒結(jié)裝備高溫鉬鎢絲燒結(jié)裝備全自動(dòng)推桿式燒結(jié)裝備網(wǎng)帶式燒結(jié)裝備高真空大型真空燒結(jié)裝備燃?xì)饪焖倜撓?氣淬網(wǎng)帶式燒結(jié)裝備真空高溫感應(yīng)燒結(jié)裝備CIM陶瓷燒結(jié)裝備連續(xù)式真空/氣氛熱加工設(shè)備壓力燒結(jié)爐粉末制品燒結(jié)裝備真空釬焊爐高溫連續(xù)石墨化生產(chǎn)設(shè)備真空定向凝固爐真空回火/退火爐真空感應(yīng)熔煉爐雙室真空油淬氣冷爐CIM陶瓷脫脂裝備熱處理裝備真空(非真空)熔煉氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線等離子體球化制備粉末材料生產(chǎn)線等離子體霧化制備粉末材料生產(chǎn)線超細(xì)/納米多元復(fù)合正極材料及球形硅粉末負(fù)極材料生產(chǎn)技術(shù)解決方案鋼帶式材料煅燒合成設(shè)備推板式材料煅燒合成設(shè)備管式回轉(zhuǎn)煅燒設(shè)備正極材料生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)方案應(yīng)用領(lǐng)域石墨烯制備創(chuàng)新材料生產(chǎn)技術(shù)專業(yè)解決方案先進(jìn)零部件產(chǎn)品生產(chǎn)解決方案儲(chǔ)能電池解決方案智能裝備和新材料技術(shù)測(cè)試和展示中心安裝培訓(xùn)售后技術(shù)支持配件供應(yīng)服務(wù)與支持關(guān)于我們專家顧問(wèn)團(tuán)企業(yè)文化資質(zhì)榮譽(yù)組織機(jī)構(gòu)廠房廠貌聯(lián)系我們人才招聘?技術(shù)解決方案之推桿式還原爐進(jìn)出料現(xiàn)場(chǎng)視頻技術(shù)解決方案之推桿進(jìn)出料現(xiàn)場(chǎng)視頻技術(shù)解決方案之推桿進(jìn)出料現(xiàn)場(chǎng)視頻久泰科技出口日本水霧化制備粉末材料生產(chǎn)線視頻出口歐洲解決方案案例視頻資料下載內(nèi)部管理平臺(tái)

久泰解決方案 |電極感應(yīng)熔煉氣霧化(EIGA)制備粉末材料生產(chǎn)線

設(shè)備概述及原理:


類型:先進(jìn)粉末材料制備

原料狀態(tài):棒狀

適用:活潑性及難熔金屬或合金粉末材料生產(chǎn)

粉末材料應(yīng)用:增材制造,機(jī)械零部件表面熔覆改性、修復(fù)再制造等

EIGA法制粉原理:在無(wú)坩堝、惰性氣體保護(hù)下,原料棒在高頻感應(yīng)器中緩慢旋轉(zhuǎn)、加熱、熔化成液流自由下落,直接掉入霧化器后,被高壓(超音速)惰性氣體沖擊破碎成大量細(xì)小液滴。然后,小液滴在霧化塔中飛行凝固成球狀粉末。熔煉過(guò)程中原料并未與坩鍋和導(dǎo)流管等接觸,因此生成的粉末未受污染,相對(duì)生產(chǎn)的產(chǎn)品化學(xué)純度很高。

設(shè)備特點(diǎn)

1、以棒為原材料生產(chǎn)超高純度球形鈦及合金粉,亦可用于生產(chǎn)高熔點(diǎn)和其它活性金屬粉末

2、生產(chǎn)高化學(xué)純度粉末材料

3、能耗低                                                    

4、防靜電防爆設(shè)計(jì)


設(shè)備部分技術(shù)參數(shù)

總功率約: 100kW

霧化質(zhì)量約: 4kg / 批次(以純Ti密度計(jì))

進(jìn)給速度:1.轉(zhuǎn)速1 ~ 30r/min;

     2. 進(jìn)給量:1 ~ 50毫米/分鐘(慢速可調(diào));200mm/min(快速穩(wěn)定)

粉末粒度: D50:≥ 45μm  

霧化氣體耗量:高純氬氣Max 800 Nm3/h



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